
Компания "Сигм плюс" создана в 1991г. как коллектив специалистов в области производства полупроводниковых эпитаксиальных гетероструктур методом МОС-гидридной (MOCVD) эпитаксии. Это время прихода в упадок отечественной микроэлектроники и оптоэлектроники в частности. Необходимо было решать не только технологические задачи создания новых эпитаксиальных структур, но и постоянно совершенствовать аппаратное оформление, в те годы еще молодого и бурно развивающегося метода МОСГЭ (MOCVD). В первую очередь хотелось сохранить тот технологический опыт, который нарабатывался годами, и не отстать от зарубежных фирм, ведущих разработки в этой области. Этим объясняется, что в небольшую группу энтузиастов MOCVD влились специалисты по моделированию и автоматизации технологических процессов, программированию, разработке и внедрения новых технологий. Благодаря этому удалось не только сохранить и преумножить технологический потенциал компании, но и создать принципиально новые типы технологического оборудования, по своим характеристикам не уступающего мировым аналогам.


_small.jpg)
